Đặc điểm chính
- Hai SLM công suất cao, bố trí tinh chỉnh cho thông lượng và chất lượng ảnh tối ưu
- Hai chế độ viết: QX (quality) – 325 mm²/phút, FX (fast) – 580 mm²/phút
- Độ đồng đều CD 30 mm, hiệu chỉnh cường độ SLM tự động với độ chính xác 2%
- Chồng lớp (overlay) 30 nm nhờ giao thoa kế vi sai 1,2 nm, bàn Zerodur, tủ ổn nhiệt ±0,02 K
- Căn chỉnh lớp thứ hai (2nd layer alignment) đạt 100 nm – quan trọng cho mặt nạ dịch pha (PSM)
- Vật kính thiết kế riêng, NA 0,9, lưới địa chỉ 4 nm, tối ưu cho bước sóng 355 nm và 640 nm
- Laser DPSS 355 nm, tuổi thọ 20.000 giờ, chi phí thấp hơn 80% so với laser khí
Mô tả chi tiết
Công nghệ & nguyên lý
ULTRA sử dụng hai bộ điều biến ánh sáng không gian (SLM) hoạt động song song, chiếu sáng trực tiếp lên mask từ dữ liệu số. Đường truyền dữ liệu tốc độ cao xử lý hình học phức tạp. Bàn máy dùng động cơ tuyến tính và ổ khí. Hệ thống lấy nét tự động qua vật kính chính.
Hạn chế của lithography truyền thống
- Laser khí (Kr+, Ar+) tiêu tốn điện lớn, chi phí thay thế cao.
- Khó đạt overlay và alignment chính xác cho mặt nạ PSM do biến dạng đế.
- CD không đồng đều với cấu trúc mật độ cao.
Ưu điểm của hệ thống maskless lithography ULTRA
- Song song hai SLM + đường truyền tốc độ cao → thời gian khắc giảm đáng kể.
- Laser DPSS 355 nm tiết kiệm 80% chi phí, tuổi thọ 20.000 giờ.
- Bàn Zerodur + giao thoa kế 1,2 nm + tủ ổn nhiệt ±0,02K → overlay 30 nm.
- Thuật toán hiệu chỉnh biến dạng ma trận → căn chỉnh lớp thứ hai 100 nm.
- Vật kính NA 0,9, giới hạn nhiễu xạ thuần túy → CD đồng đều 30 mm.
Tích hợp & mở rộng
Tương thích tất cả cản quang i‑line (355 nm), flowbox tích hợp. Chuck Zerodur 3 điểm tựa, độ tái lập cao. Dễ dàng lắp đặt vào xưởng sản xuất mask.