EIS-200ERP (Elionix Ion Beam Etching/Sputtering System): Đây là một hệ thống quang khắc/phún xạ chùm ion, cho phép ăn mòn vật liệu ở cấp độ nano và lắng đọng bằng cách sử dụng chùm ion ECR.

Dòng PlasmaPro của Oxford Instruments cung cấp các nền tảng xử lý plasma linh hoạt từ R&D đến sản xuất khối lượng lớn, bao gồm các công nghệ RIE, ICP, ICP CVD, PECVD và RIE/PE kết hợp. Hỗ trợ wafer từ mảnh nhỏ đến 300mm, kiểm soát ứng suất màng bằng tần số kép (LF/HF), phát hiện điểm kết thúc bằng OES/laser. Giải pháp tối ưu cho MEMS, cảm biến, quang tử, LED, vi điện tử công suất và phân tích thất bại.

NANOS được thiết kế kích thước nhỏ gọn, hiện đại, cung cấp khả năng chụp ảnh độ phân giải cao (< 8nm) và phân tích nguyên tố nhanh chóng chất lượng cao với độ phóng đại 200.000x. NANOS trở thành giải pháp lý tưởng cho các ứng dụng nghiên cứu, công nghiệp và môi trường.

Jupiter XR là AFM mẫu lớn tích hợp cả quét tốc độ cao và dải quét mở rộng trong cùng một đầu dò (XR scanner). Công nghệ blueDrive™ Tapping Mode độc quyền giúp đơn giản hóa vận hành, tăng độ lặp lại và kéo dài tuổi thọ đầu dò. Hệ thống laser và detector được điều khiển hoàn toàn bằng phần mềm. Giải pháp lý tưởng cho đo lường công nghiệp, R&D vật liệu, bán dẫn, polymer và nghiên cứu đa dạng.

Hệ thống PRO Line PVD 200 nâng tầm năng suất nghiên cứu với khả năng xử lý wafer cỡ lớn lên đến 8 inch. Hệ thống là giải pháp hoàn hảo giúp bạn rút ngắn thời gian thử nghiệm, tạo ra lớp màng mỏng đồng đều tuyệt đối cho các ứng dụng công nghiệp tương lai.

Sở hữu công nghệ SIMS hội tụ kép từ tính, khối phổ kế ion thứ cấp IMS 7f-Auto cung cấp khả năng phân giải chiều sâu xuất sắc với giới hạn phát hiện cỡ ppb. Đây là giải pháp phân tích hoàn toàn tự động mang lại thông lượng cao cho ngành bán dẫn, quang điện và vật liệu, giúp tối đa hóa năng suất nhờ khả năng vận hành liên tục 24/7.

QuantumLeap là hệ thống quang phổ hấp thụ tia X (XAS) tiên tiến với hai chế độ truyền qua và huỳnh quang. Hệ thống có dải năng lượng rộng từ 4,5 đến 25 keV và là XAS duy nhất trong phòng thí nghiệm có hiệu suất tương đương Synchrotron mang lại hiệu quả ngay tại phòng thí nghiệm, giải pháp cho lĩnh vực Pin và nhiên liệu, chất xúc tác, nghiên cứu về các nguyên tố nặng...

Được phát triển từ nền tảng IMS 7f danh tiếng, khối phổ ion thứ cấp (SIMS) có vỏ bọc ACTINIS sở hữu hệ thống bảo vệ bức xạ tinh vi, cho phép đo đạc mẫu phóng xạ cao tới 2 Gy/h. Thiết bị đạt độ phân giải không gian sub-micron, tối ưu hóa độ truyền qua và khả năng đo tỷ lệ đồng vị. Đây là giải pháp tự động hóa an toàn, lý tưởng để tối ưu chu trình nhiên liệu hạt nhân và quản lý chất thải

Hệ thống XAS đầu tiên có khả năng phân tích mẫu có số nguyên tử thấp và phân tích điểm siêu nhỏ. Cho phép đo XANES ở mức 0,7 eV và EXAFS trong vòng vài giây hoặc vài phút. MicroXAS với kích thước điểm 100 micron với bệ mẫu di chuyển tự động cho phép lập bản đồ XAS ở độ phân giải 100 µm trên một mẫu. Là giải pháp hàng đầu cho nghiên cứu pin, xúc tác và khoa học vật liệu.

TriLambdaXRM-30 (nanoXRM) ứng dụng công nghệ X-ray optics độc quyền của Sigray cung cấp độ phân giải 35nm đỉnh cao. Thiết bị tích hợp đồng thời lên đến 3 nguồn năng lượng tia X (X-ray energies) giúp tối ưu hóa độ tương phản hình ảnh 3D nanoXRM cho mọi loại vật liệu từ polymer đến kim loại, mang lại giải pháp không phá hủy mẫu hoàn hảo cho pin và sinh học.

KDF In-Line PVD Solutions (thuộc tập đoàn Kurt J. Lesker) là dòng thiết bị phún xạ màng mỏng theo mẻ liên tục (batch in-line) tiên tiến, sở hữu độ tin cậy cơ khí vượt trội cùng chi phí sở hữu (CoO) thấp nhất trong ngành công nghiệp. Khác với các hệ thống dạng cụm (cluster tools) cồng kềnh, cấu trúc phân làn liên tục của KDF giúp tối ưu hóa không gian, đơn giản hóa quy trình vận hành và bảo trì, đồng thời mang lại bước nhảy vọt về độ đồng đều của màng phủ, sản lượng đầu ra và độ ổn định quy trình. Hệ thống được thiết kế linh hoạt, đáp ứng hoàn hảo từ quy mô nghiên cứu phát triển (R&D) cho đến sản xuất công nghiệp khối lượng lớn trong các lĩnh vực bán dẫn, vật liệu mới, thiết bị y tế và màn hình phẳng.

ALD-150LX là giải pháp hàng đầu của Kurt J. Lesker cho phương pháp lắng đọng lớp nguyên tử (ALD), cho phép chế tạo màng mỏng đồng đều ở cấp độ nguyên tử. Hệ thống tích hợp các công nghệ độc quyền như kỹ thuật tập trung tiền chất (Precursor Focusing Technique™ - PFT) và khả năng xử lý có độ tinh khiết siêu cao (Ultrahigh Purity - UHP), mang lại hiệu suất cao và linh hoạt cho phòng thí nghiệm.