EIS-200ERP (Elionix Ion Beam Etching/Sputtering System): Đây là một hệ thống quang khắc/phún xạ chùm ion, cho phép ăn mòn vật liệu ở cấp độ nano và lắng đọng bằng cách sử dụng chùm ion ECR.

Dòng PlasmaPro của Oxford Instruments cung cấp các nền tảng xử lý plasma linh hoạt từ R&D đến sản xuất khối lượng lớn, bao gồm các công nghệ RIE, ICP, ICP CVD, PECVD và RIE/PE kết hợp. Hỗ trợ wafer từ mảnh nhỏ đến 300mm, kiểm soát ứng suất màng bằng tần số kép (LF/HF), phát hiện điểm kết thúc bằng OES/laser. Giải pháp tối ưu cho MEMS, cảm biến, quang tử, LED, vi điện tử công suất và phân tích thất bại.

ELS-BODEN Series tối ưu cho các ứng dụng tạo mẫu siêu mịn. Thiết bị sở hữu vùng ghi lên đến 300 mm²,linh hoạt từ các mẫu kích thước nhỏ, mặt nạ 9 inch cho đến wafer 300 mm.Quy trình vận hành được tự động hóa liền mạch nhờ hệ thống nạp mẫu tự động.Thiết bị cung cấp dải tùy chọn điện áp gia tốc linh hoạt: 50, 100, 125 và 150 kV.

Hệ thống PRO Line PVD 200 nâng tầm năng suất nghiên cứu với khả năng xử lý wafer cỡ lớn lên đến 8 inch. Hệ thống là giải pháp hoàn hảo giúp bạn rút ngắn thời gian thử nghiệm, tạo ra lớp màng mỏng đồng đều tuyệt đối cho các ứng dụng công nghiệp tương lai.

Hệ thống Lab Line đại diện cho bước đột phá công nghệ trong việc chế tạo màng mỏng phân khúc nghiên cứu chất bán dẫn và linh kiện quang điện tử tiên tiến. Cơ chế cốt lõi của hệ thống dựa trên việc thiết lập và duy trì một môi trường chân không siêu cao (UHV) nghiêm ngặt trước và trong suốt quá trình phún xạ magnetron.

KDF In-Line PVD Solutions (thuộc tập đoàn Kurt J. Lesker) là dòng thiết bị phún xạ màng mỏng theo mẻ liên tục (batch in-line) tiên tiến, sở hữu độ tin cậy cơ khí vượt trội cùng chi phí sở hữu (CoO) thấp nhất trong ngành công nghiệp. Khác với các hệ thống dạng cụm (cluster tools) cồng kềnh, cấu trúc phân làn liên tục của KDF giúp tối ưu hóa không gian, đơn giản hóa quy trình vận hành và bảo trì, đồng thời mang lại bước nhảy vọt về độ đồng đều của màng phủ, sản lượng đầu ra và độ ổn định quy trình. Hệ thống được thiết kế linh hoạt, đáp ứng hoàn hảo từ quy mô nghiên cứu phát triển (R&D) cho đến sản xuất công nghiệp khối lượng lớn trong các lĩnh vực bán dẫn, vật liệu mới, thiết bị y tế và màn hình phẳng.

KiloFlow là hệ thống phản ứng dòng chảy liên tục (flow chemistry) bằng thủy tinh cao cấp, chuyên phục vụ quy mô từ phòng thí nghiệm đến sản xuất nhỏ (giai đoạn kilo-lab). Hệ thống sở hữu thiết kế thông minh với các mô-đun linh hoạt, giúp tối ưu hóa khả năng trộn trộn chất, kiểm soát nhiệt độ nghiêm ngặt và nâng cao độ an toàn khi xử lý các phản ứng nguy hiểm. Nhờ khả năng tăng quy mô (scale-up) trực tiếp và đáng tin cậy, KiloFlow® giúp rút ngắn đáng kể thời gian đưa quy trình từ nghiên cứu ra sản xuất thương mại.

ALD-150LX là giải pháp hàng đầu của Kurt J. Lesker cho phương pháp lắng đọng lớp nguyên tử (ALD), cho phép chế tạo màng mỏng đồng đều ở cấp độ nguyên tử. Hệ thống tích hợp các công nghệ độc quyền như kỹ thuật tập trung tiền chất (Precursor Focusing Technique™ - PFT) và khả năng xử lý có độ tinh khiết siêu cao (Ultrahigh Purity - UHP), mang lại hiệu suất cao và linh hoạt cho phòng thí nghiệm.