ELS-ORCA ứng dụng công nghệ 30kV EBL Column tiên tiến với tùy chọn nâng cấp lên 50kV độc quyền. Hệ thống sở hữu tốc độ khắc vượt trội 100 MHz và độ phân giải Minimum Line Width đạt tới 10 nm. Đây là giải pháp lý tưởng cho các ứng dụng chế tạo nano (nanofabrication) và nghiên cứu phát triển (R&D) vật liệu bán dẫn cao cấp.