Đặc điểm chính
- Công nghệ Cover Chuck tiên tiến: Tối ưu hóa độ đồng đều (Uniformity) của màng phủ, giảm thiểu lượng tiêu hao chất cản quang và loại bỏ hoàn toàn hiện tượng mạng nhện (cotton candy effect) khi phủ các chất độ nhớt cao.
- Mô-đun hóa linh hoạt (Selectable Process Modules): Cho phép cấu hình tích hợp đa dạng từ Spin Coater (bồn hở hoặc trục gá có nắp), Spray Coater (vòi phun siêu âm Ultrasonic Nozzle), Developer (phun hoặc vũng Puddle) đến các tấm gia nhiệt và làm mát (Hot- & Cool-plates).
- Phần mềm điều khiển độc quyền CLS (Cluster Software): Giao diện đồ họa GUI thân thiện trên màn hình cảm ứng 10" hoặc 22" giúp lập trình chính xác mọi thông số chuyển động của tay phun, lưu lượng dòng dung dịch và chỉnh sửa công thức (Recipe) dễ dàng.
- Hệ thống phân phối chất lỏng Syringe Servo Motor-Controlled: Kiểm soát piston bằng động cơ servo cho phép cấp dung dịch liên tục hoặc phân liều cực nhỏ chính xác, tích hợp chức năng hút ngược (Suck-back) chống nhỏ giọt.
Thiết kế chuẩn phòng sạch cao cấp: Khung vỏ máy chế tạo từ thép không gỉ sơn tĩnh điện bền bỉ, tích hợp cửa bảo vệ trong suốt và nút dừng khẩn cấp (Emergency stop), đáp ứng nghiêm ngặt tiêu chuẩn phòng sạch ISO Class 4.
Mô tả chi tiết
- Công nghệ/Nguyên lý: Hệ thống n.unixx-series vận hành theo nguyên lý phủ quay ly tâm (Spin Coating) và phủ phun (Spray Coating) bán tự động đối với các tấm chất nền đơn. Trong mô-đun Spin Coater, công nghệ nắp che kín (Covered Chuck) được áp dụng để kiểm soát dòng khí động học quanh chất nền, giúp tối ưu hóa độ đồng đều bề mặt. Đối với mô-đun Spray Coater, thiết bị sử dụng cơ cấu robot 6 trục chuyển động tuyến tính X-Y-Z kết hợp vòi phun siêu âm (Ultrasonic Spray Nozzle) để phun phủ mịn và đồng nhất các dung dịch có độ nhớt từ thấp đến trung bình.
- Điểm nổi bật: Trong các quy trình phủ quang khắc truyền thống bằng bồn hở (Open Bowl), việc phủ các chất cản quang dày hoặc vật liệu BCB thường gây ra hiện tượng lưu hóa dạng sợi bông (cotton candy effect), làm bám bẩn buồng máy và suy giảm độ đồng đều màng. Ngoài ra, việc lãng phí hóa chất cản quang (Resist) luôn là bài toán đau đầu về chi phí. Khắc phục điều này, n.unixx-series với công nghệ trục gá có nắp bảo vệ (Covered Chuck Technology) giúp triệt tiêu hoàn toàn hiệu ứng tạo sợi polymer, bảo vệ mặt sau wafer (Backside protection) và giảm đáng kể lượng hóa chất cản quang tiêu thụ.
- Tích hợp/mở rộng: Thiết bị mang lại khả năng tùy biến cao nhờ thiết kế mô-đun mở rộng. Người dùng có thể tích hợp thêm các cánh tay phân phối dung dịch điện tử (Up to two electric media arms) hỗ trợ tới 6 đường cấp hóa chất, hệ thống tủ chứa hóa chất ekternal (External media cabinets) tích hợp cảm biến cảnh báo mức cao, hoặc nâng cấp tính năng kết nối quản lý nhà máy thông qua giao thức tùy chọn SECS/GEM