EIS-200ERP (Elionix Ion Beam Etching/Sputtering System): Đây là một hệ thống quang khắc/phún xạ chùm ion, cho phép ăn mòn vật liệu ở cấp độ nano và lắng đọng bằng cách sử dụng chùm ion ECR.

Dòng PlasmaPro của Oxford Instruments cung cấp các nền tảng xử lý plasma linh hoạt từ R&D đến sản xuất khối lượng lớn, bao gồm các công nghệ RIE, ICP, ICP CVD, PECVD và RIE/PE kết hợp. Hỗ trợ wafer từ mảnh nhỏ đến 300mm, kiểm soát ứng suất màng bằng tần số kép (LF/HF), phát hiện điểm kết thúc bằng OES/laser. Giải pháp tối ưu cho MEMS, cảm biến, quang tử, LED, vi điện tử công suất và phân tích thất bại.

ELS-BODEN Series tối ưu cho các ứng dụng tạo mẫu siêu mịn. Thiết bị sở hữu vùng ghi lên đến 300 mm²,linh hoạt từ các mẫu kích thước nhỏ, mặt nạ 9 inch cho đến wafer 300 mm.Quy trình vận hành được tự động hóa liền mạch nhờ hệ thống nạp mẫu tự động.Thiết bị cung cấp dải tùy chọn điện áp gia tốc linh hoạt: 50, 100, 125 và 150 kV.

Máy hàn dây Ball-Wedge tự động 5810 F&S Bondtec sở hữu đầu hàn có thể hoán đổi linh hoạt cùng hệ thống nhận diện hình ảnh thông minh. Thiết bị mang lại độ chính xác lặp lại ±3 µm, vận hành hoàn toàn tự động không phụ thuộc người vận hành để tối ưu hóa năng suất. Sản phẩm là giải pháp lý tưởng cho các ứng dụng R&D, sản xuất thử nghiệm (Pilot Manufacturing) và sản xuất quy mô vừa.

LAB-Tester LT-101 là dòng máy kiểm tra lực kéo mối hàn có thiết kế nhỏ gọn, tinh giản. Thiết bị được trang bị phần mềm cập nhật tiên tiến để thực hiện các thử nghiệm kiểm tra lực kéo một cách dễ dàng và nhanh chóng. Máy được thiết kế đa năng, đáp ứng tốt cho cả các ứng dụng dây hàn mảnh lẫn dây hàn cỡ lớn trong ngành đóng gói bán dẫn.

Hệ thống PRO Line PVD 200 nâng tầm năng suất nghiên cứu với khả năng xử lý wafer cỡ lớn lên đến 8 inch. Hệ thống là giải pháp hoàn hảo giúp bạn rút ngắn thời gian thử nghiệm, tạo ra lớp màng mỏng đồng đều tuyệt đối cho các ứng dụng công nghiệp tương lai.

KDF In-Line PVD Solutions (thuộc tập đoàn Kurt J. Lesker) là dòng thiết bị phún xạ màng mỏng theo mẻ liên tục (batch in-line) tiên tiến, sở hữu độ tin cậy cơ khí vượt trội cùng chi phí sở hữu (CoO) thấp nhất trong ngành công nghiệp. Khác với các hệ thống dạng cụm (cluster tools) cồng kềnh, cấu trúc phân làn liên tục của KDF giúp tối ưu hóa không gian, đơn giản hóa quy trình vận hành và bảo trì, đồng thời mang lại bước nhảy vọt về độ đồng đều của màng phủ, sản lượng đầu ra và độ ổn định quy trình. Hệ thống được thiết kế linh hoạt, đáp ứng hoàn hảo từ quy mô nghiên cứu phát triển (R&D) cho đến sản xuất công nghiệp khối lượng lớn trong các lĩnh vực bán dẫn, vật liệu mới, thiết bị y tế và màn hình phẳng.

ALD-150LX là giải pháp hàng đầu của Kurt J. Lesker cho phương pháp lắng đọng lớp nguyên tử (ALD), cho phép chế tạo màng mỏng đồng đều ở cấp độ nguyên tử. Hệ thống tích hợp các công nghệ độc quyền như kỹ thuật tập trung tiền chất (Precursor Focusing Technique™ - PFT) và khả năng xử lý có độ tinh khiết siêu cao (Ultrahigh Purity - UHP), mang lại hiệu suất cao và linh hoạt cho phòng thí nghiệm.