Đặc điểm chính
- Tự động lựa chọn phương pháp đánh giá độ dày lớp phủ để tối ưu hóa sai số tương đối của phép đo.
- Điều khiển từ xa các thiết bị điện tử và phần mềm phân tích thông qua giao diện ETHERNET từ thiết bị trạm làm việc và liên lạc với máy chủ OPC.
- Vận hành và dịch vụ rất đơn giản và tiện lợi.
- Có thể lắp đặt khối đo ở phía dưới và/hoặc phía trên vật liệu cần đo.
Mô tả chi tiết
Công nghệ & Nguyên lý:
Thiết bị phân tích độ dày lớp phủ là công cụ dùng để đo chính xác và chuẩn xác bằng phương pháp huỳnh quang tia X (XRF). Thiết bị vận hành dựa trên nguyên lý kích thích các nguyên tố trong lớp phủ, sau đó thu nhận phổ huỳnh quang tia X đặc trưng thông qua đầu dò SDD làm mát bằng sò Peltier để xác định độ dày lớp phủ. Hệ thống sử dụng máy tính công nghiệp tích hợp cùng thuật toán tự động lựa chọn phương pháp đánh giá để tối ưu hóa sai số tương đối của phép đo.
Tối ưu hóa sai số tương đối của các phép đo nhờ Tự động lựa chọn phương pháp đánh giá độ dày lớp phủ
Triệt tiêu sai số đo lường nhờ khả năng tự động lựa chọn phương pháp tính toán độ dày phù hợp, tối ưu hóa sai số tương đối đạt < 3% với thời gian đo chỉ 5 giây.
Trình hướng dẫn phần mềm thân thiện
Tối ưu hóa thời gian vận hành nhờ các trình hướng dẫn trực quan, cho phép người dùng tạo phương pháp phân tích mới chỉ trong vài phút.
Tích hợp/ Mở rộng:
Hệ thống hỗ trợ đo độ dày lớp phủ kim loại và phi kim (từ Mg đến U) trên mọi loại vật liệu nền. Thiết bị bao gồm khối thiết bị đo, khối hiển thị cảnh báo tia X, nút dừng khẩn cấp và trạm làm việc. Toàn bộ phân tích được quản lý qua phần mềm chia cấp giao diện cho Quản trị viên và Người vận hành. Hệ thống tương thích nguồn điện 230/380 VAC (50/60 Hz), hoạt động trong dải nhiệt độ +5 đến +40 °C, phù hợp cho việc kiểm soát và giám sát các quy trình công nghiệp trực tuyến.