Bỏ qua để đến Nội dung
Quang khắc chùm ion Elionix ELS EIS-200ERP

Giá:

0 ₫

Lắng đọng màng mỏng PlasmaPro 80/100/800 - PECVD
Lắng đọng màng mỏng PlasmaPro 80/100/800 - PECVD
Mới!

Quang khắc chùm ion Elionix ELS EIS-200ERP

EIS-200ERP (Elionix Ion Beam Etching/Sputtering System): Đây là một hệ thống quang khắc/phún xạ chùm ion, cho phép ăn mòn vật liệu ở cấp độ nano và lắng đọng bằng cách sử dụng chùm ion ECR.

 

7 người đang xem sản phẩm này ngay bây giờ
0 ₫ 0 ₫

  • Lĩnh vực nghiên cứu
  • Thương hiệu - Elionix
  • Vật liệu mẫu
Elionix
Elionix

Nhà sản xuất hệ thống quang khắc chùm điện tử (E-beam Lithogrpahy) nổi tiếng cho R&D đến từ Nhật Bản

Đặc điểm chính


  • Ăn mòn/lắng đọng đa năng: Một số mẫu như EIS-220P được trang bị hai súng ion, cho phép luân phiên thực hiện cả hai quá trình ăn mòn (etching) và lắng đọng (deposition) mà không cần tháo mẫu ra khỏi buồng chân không, giúp duy trì môi trường sạch và hiệu quả quy trình.

  • Sử dụng nhiều loại khí: Máy có thể sử dụng cả khí trơ (như Argon, Xenon) và khí hoạt hóa (như Oxy, CF4) làm nguồn ion, cho phép thực hiện cả ăn mòn vật lý và ăn mòn hóa học.

  • Kiểm soát góc chiếu: Cho phép điều chỉnh góc chiếu chùm ion để tạo ra các cấu trúc có thành nghiêng.

Mô tả chi tiết


  • Cấu hình phân khúc 8” và 12” Hệ thống EBL đầu tiên trên thế giới tích hợp khả năng phơi sáng toàn diện trên wafer 12 inch. Hỗ trợ đa dạng kích thước mẫu: từ các mảnh mẫu nhỏ (trong R&D), wafer đường kính 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 12 inch, cho đến phôi mặt nạ chuẩn 6025 và 9025.
  • Cơ chế nạp mẫu tự động Hệ thống cung cấp 3 cấu hình nạp mẫu linh hoạt theo nhu cầu: Bộ tải đơn (Single autoloader) tối ưu cho ứng dụng R&D; Bộ tải đa nhiệm (Multi autoloader) cho sản xuất quy mô nhỏ/vừa; và Bộ tải dạng cánh tay robot (Robot loader).
  • Phần mềm điều khiển trực quan Phần mềm chuyên dụng “elms” được tích hợp sẵn dưới dạng tiêu chuẩn. Giao diện thiết kế theo cấu trúc mô-đun độc lập cho từng chức năng: chuyển đổi dữ liệu CAD, hiệu chỉnh chùm tia (beam adjustment), phơi sáng (exposure) và quan sát SEM; giúp tối ưu hóa tiến trình làm việc. Hệ thống tích hợp tính năng quản lý tài khoản hỗ trợ phân quyền truy cập chức năng cho từng người dùng.

Thông số kỹ thuật chi tiết


TFE Filament

ZrO/W Thermal field emitter

Acceleration Voltage

50 kV

100 kV

125 kV

150 kV

Beam Current

1 nA ~ 800 nA

20 pA ~ 200 nA

5 pA ~ 100 nA

5 pA ~ 100 nA

Minimum Beam Diameter

Ø 2.8 nm

Ø 1.8 nm

Ø 1.7 nm

Ø 1.5 nm

Standard Field Size

1000 μm□

1000 μm□

500 μm□

500 μm□

Min./Max. Field Size

Min. 100 μm □

Max. (Option) 3000 μm□

Scan Clock

100 MHz

Max. (Option) 200 MHz

Shot Pitch

Min. 0.2 nm

Max. Sample Size

8” Wafer / 12” Wafer

Max. Exposure Area

200 mm x 200 mm / 300 mm x 300 mm

Loading Mechanism

Single AutoLoader

Multi AutoLoader

Robot Loader

Software

elms

• Beam adjustment function

• Drawing schedule function

• Pattern data conversion function

• Account management

• Python scripting



Lĩnh vực nghiên cứu Khoa học Vật liệu hoặc Công nghệ Bán dẫn hoặc Công nghệ Lượng tử
Vật liệu mẫu Kim loại & Hợp kim hoặc Vật liệu tiên tiến
Thương hiệu Elionix
Quang khắc chùm ion Elionix ELS EIS-200ERP
Quang khắc chùm ion Elionix ELS EIS-200ERP
0 ₫