Đặc điểm chính
- Elionix ELS-ORCA là một hệ thống quang khắc chùm điện tử (EBL) tiên tiến, dành cho nghiên cứu và phát triển (R&D) trong lĩnh vực nanofabrication.
- Hệ thống này được tối ưu cho các ứng dụng yêu cầu độ phân giải cao và khả năng tùy chỉnh linh hoạt, phù hợp với các phòng thí nghiệm nghiên cứu và sản xuất thử nghiệm.
Mô tả chi tiết
Tính năng tuỳ chọn cao Các tùy chọn đa dạng, thông số kỹ thuật tùy chỉnh
- Phần mềm thân thiện với người dùng Phần mềm điều khiển máy (ELMS) được cài đặt sẵn trên hệ thống ELS-ORCA. ELMS là một bộ công cụ toàn diện bao gồm các mô-đun như chuyển đổi dữ liệu CAD, điều chỉnh chùm tia, thực hiện quang khắc, và quan sát SEM. Hệ thống mô-đun này giúp các chức năng cần thiết dễ tiếp cận hơn và quy trình làm việc của bạn hiệu quả hơn. Chức năng quản lý tài khoản của elms có thể hạn chế quyền truy cập vào các chức năng tùy thuộc vào người dùng.
- Hệ thống quang khắc chùm điện tử ELS-ORCA 30 kV có thể được tùy chỉnh với nhiều tùy chọn như điện áp tăng tốc 50 kV, lấy nét động/stigma, và điều chỉnh tiêu điểm hỗ trợ cảm biến chiều cao. Với sự kết hợp của các tùy chọn này, ELS-ORCA trở thành một hệ thống được điều chỉnh phù hợp với các yêu cầu riêng của các nhà nghiên cứu.
- Tùy chọn giảm tốc cho hình ảnh SEM Tùy chọn giảm tốc của ELS-ORCA cho phép quan sát SEM độ phân giải cao với mức tổn hại thấp. Với điện áp tăng tốc thấp tương đương với hệ thống SEM, ELS-ORCA cho phép quan sát khu vực lên đến 6 inch trên các wafer 8 inch. Quan sát SEM tự động sử dụng dữ liệu CAD chuẩn bị cho quá trình quang khắc cũng được hỗ trợ.