Đặc điểm chính
- Đáp ứng hoàn hảo mọi yêu cầu khắt khe (High Performance): Khả năng tùy chọn dải điện áp linh hoạt từ 50kV, 100kV, 125kV đến 150kV cho phép xử lý tối ưu từ sản xuất tốc độ cao đến các cấu trúc siêu mịn (ultra-fine patterns).
- Vùng viết quy mô công nghiệp lớn nhất (300mm Square Area): Là hệ thống đầu tiên trên thị trường mở rộng toàn diện diện tích phơi sáng đạt 300mm x 300mm, giúp nâng cao đáng kể sản lượng.
- Đa dạng hóa kích thước mẫu linh hoạt (Versatile Holders): Hỗ trợ xử lý từ các mảnh mẫu nhỏ (small pieces) trong nghiên cứu cơ bản đến các tấm Wafer kích thước lớn 200mm/300mm và các loại mặt nạ quang học tiêu chuẩn (6025, 9025).
- Tự động hóa vận hành toàn diện (Automatic Loading System): Cung cấp dải tùy chọn phân cấp từ Single Autoloader cho phòng R&D đến Multi Autoloader và hệ thống Robot loader (300mm FOUP / PEB) cho dây chuyền sản xuất tự động.
- Vị trí chùm tia đạt độ chính xác nano (Ultra-precise Positioning): Độ phân giải dịch chuyển chùm tia đạt mức cực nhỏ 0.1nm tại trường viết tiêu chuẩn, đảm bảo tính đồng đều cấu trúc.
- Quản lý và lập trình trực quan chuyên nghiệp (Intelligent Software): Phần mềm elms tích hợp sẵn công cụ quản lý tài khoản bảo mật, bộ phơi sáng thông minh và hỗ trợ mở rộng tính năng qua Python Scripting.
Mô tả chi tiết
- Công nghệ / Nguyên lý: ELS-BODEN kế thừa trọn vẹn công nghệ lõi di sản của hãng Elionix kết hợp nguồn phát xạ trường nhiệt ZrO/W Thermal Field Emitter. Hệ thống kiểm soát chùm tia electron siêu mảnh với kích thước điểm chùm tia nhỏ nhất đạt từ 1.5nm đến 2.8nm tùy thuộc cấu hình điện áp. Chu kỳ đồng hồ quét phơi sáng thế hệ mới (Scan clock) đạt tần số tối đa lên đến 200MHz, vận hành đồng bộ trên nền tảng phần mềm quản lý hệ thống quang khắc elms toàn diện.
- Cách giải quyết: Các cơ sở nghiên cứu và đơn vị sản xuất bán dẫn thường gặp điểm nghẽn lớn khi phải lựa chọn giữa một hệ thống có độ phân giải cao cấu trúc siêu nhỏ nhưng năng suất thấp, hoặc hệ thống vùng viết lớn nhưng độ chính xác kém. ELS-BODEN loại bỏ hoàn toàn hạn chế này nhờ khả năng kết hợp điện áp gia tốc cực cao lên tới 150kV và vùng phơi sáng full 300mm square duy nhất trên thị trường. Điểm nghẽn về việc chuyển đổi thủ công tốn thời gian giữa các loại mẫu cũng được xử lý triệt để nhờ hệ thống nạp tự động bằng robot tùy biến theo quy mô từ phòng thí nghiệm đến nhà máy.
- Tích hợp / Mở rộng: Thiết bị được thiết kế theo cấu trúc mô-đun hóa cực cao với các buồng chân không (chamber) tùy chọn loại 200mm hoặc 300mm. Hệ thống nạp mẫu có khả năng nâng cấp linh hoạt từ Single Autoloader lên hệ thống nhiều khay Multi Autoloader, Robot loader chuyên dụng cho hộp FOUP 300mm hoặc hệ thống Robot PEB (Post Exposure Bake), cho phép tích hợp trực tiếp vào các dây chuyền sản xuất bán dẫn tự động hóa quy mô công nghiệp vừa.