Hệ thống khắc nano NPS300 tích hợp công nghệ in thạch bản dập mẫu lặp lại (Nanoimprint Lithography Stepper) tiên tiến, đạt độ chính xác căn chỉnh chồng lớp vượt trội ± 250 nm và dải lực nén linh hoạt. Thiết bị mang lại giải pháp in khắc phân giải cao sub-50 nm, tối ưu hóa chi phí vận hành, lý tưởng cho phân khúc R&D chuyên sâu và sản xuất thử nghiệm trong ngành quang học, thiết bị sinh học và cấu trúc nano.