Đặc điểm chính
Điều khiển eKLipse™ thông minh: Tích hợp giao diện PC-Based HMI chuyên dụng cho phép lập trình, kiểm soát quy trình và tự động hóa công thức (recipe) nâng cao một cách trực quan.
Thiết kế buồng hộp linh hoạt: Sử dụng buồng thép không gỉ 304L (thể tích 100 lít) với các tấm ốp hông kín bằng O-ring, mang lại khả năng mô-đun hóa và nâng cấp hệ thống tối đa.
Tích hợp buồng khóa tải tùy chọn: Hỗ trợ module Substrate Load Lock (trên phiên bản Open Frame) giúp đưa mẫu vào/ra nhanh chóng mà không cần xả chân không toàn bộ buồng chính.
Đa cấu hình nguồn lắng đọng: Cho phép kết hợp linh hoạt tối đa 6 cathode phun xạ Torus 3", nguồn bốc bay chùm tia điện tử (E-beam), 4 nguồn bốc bay nhiệt hoặc nguồn hữu cơ LTE.
Xử lý nhiệt độ cao lý tưởng: Khả năng gia nhiệt đế mẫu (kích thước tối đa 6") lên đến 850°C kết hợp nguồn Bias RF 100W để làm sạch bề mặt tinh khiết.
Hiệu suất chân không vượt trội: Đạt áp suất nền cực cao tới ngưỡng -5 × 10⁻⁸ Torr nhờ tùy chọn bơm Cryo 1500 l/sec hoặc bơm Turbo hiệu năng cao.
Mô tả chi tiết
Hệ thống PRO Line PVD 75 vận hành dựa trên nguyên lý lắng đọng vật lý từ pha hơi (PVD) trong môi trường chân không siêu cao. Điểm cốt lõi trong cơ chế của hệ thống là việc tích hợp linh hoạt đa nguồn năng lượng trên cùng một nền tảng buồng hộp (Box Chamber) 100 lít.
Hệ thống cho phép cấu hình đồng thời công nghệ phún xạ magnetron (Sputtering) sử dụng các cathode Torus® độc quyền, bốc bay chùm tia điện tử (E-beam), bốc bay nhiệt (Thermal) và nguồn bốc bay vật liệu hữu cơ nhiệt độ thấp (LTE). Khi dòng khí trơ (như Argon) được phóng điện tạo plasma, các ion sẽ bắn phá bia vật liệu (Target) trong cơ chế Sputtering; hoặc chùm electron cường độ cao sẽ bắn trực tiếp vào chén nung trong cơ chế E-beam để làm hóa hơi vật liệu. Các phân tử vật liệu tự do này di chuyển trong môi trường chân không siêu cao -5 × 10⁻⁸ Torr – nơi có quãng đường tự do trung bình cực lớn – để hướng thẳng và bám chặt lên bề mặt đế mẫu (Substrate).
Để kiểm soát chất lượng màng mỏng, hệ thống sử dụng cơ chế xoay đế mẫu liên tục (đến 20 RPM) kết hợp với các bộ điều khiển độ dày màng bằng vi cân tinh thể thạch anh (QCM). Đồng thời, hệ thống quản lý nhiệt độ thông minh cho phép gia nhiệt lên tới 850°C hoặc làm mát bằng nước trực tiếp, giúp định hình cấu trúc tinh thể của màng mỏng ngay trong quá trình lắng đọng.
Kiến trúc phần mềm eKLipse™ độc bản: Khác với các đối thủ thường sử dụng phần mềm điều khiển công nghiệp chạy trực tiếp trên hệ điều hành Windows dễ bị treo hoặc gián đoạn, eKLipse™ phân tách hoàn toàn giữa giao diện người dùng (HMI) và bộ điều khiển quy trình thời gian thực. Nếu máy tính điều khiển bị tắt hoặc gặp sự cố mạng, các công thức lắng đọng (Recipes) vẫn tiếp tục chạy tự động và an toàn, bảo vệ tuyệt đối các mẫu vật liệu nghiên cứu đắt đỏ khỏi bị hỏng.
Hiệu suất chân không và Thiết kế hình học tối ưu: Thiết kế buồng dạng hộp vuông bằng thép không gỉ 304L tối ưu hóa tỷ lệ giữa thể tích và diện tích bề mặt bên trong, kết hợp với các vách ngăn (shields) có thể tháo rời. Điều này giúp hệ thống đạt áp suất nền siêu cao nhanh hơn đáng kể so với các buồng hình trụ thông thường của đối thủ, giảm thiểu thời gian chờ đợi (chỉ số throughput cao hơn) và ngăn ngừa hiện tượng nhiễm chéo khí nền.
Thiết kế che chắn chéo dạng vòm (Compact Dome Shutter): Trong khi các hệ thống khác sử dụng các tấm che (shutter) phẳng dạng gạt chiếm nhiều không gian và dễ bị kẹt do tích tụ vật liệu, PVD 75 áp dụng thiết kế cửa sập dạng vòm cong ôm sát nguồn. Giải pháp này giúp tối ưu hóa khoảng cách từ nguồn đến đế, đồng thời ngăn ngừa tuyệt đối sự nhiễm chéo giữa các nguồn vật liệu khi vận hành đa lớp.